[发明专利]一种抛光垫有效
| 申请号： | 202011614266.7 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112720282B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 刘敏;王腾;邱瑞英;黄学良;杨佳佳;张季平 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎汇微电子材料有限公司;长江存储科技有限责任公司;湖北鼎龙控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D7/00 | 分类号： | B24D7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430057 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，研磨层与直径为Dw的被研磨材料直接接触，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，其中第二研磨区宽度W2满足：W2＝0.8Dw‑0.995Dw；本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数以及研磨层，缓冲层物性参数进行综合设计，使得本发明的抛光垫具有优异的综合性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北鼎汇微电子材料有限公司;长江存储科技有限责任公司;湖北鼎龙控股股份有限公司，未经湖北鼎汇微电子材料有限公司;长江存储科技有限责任公司;湖北鼎龙控股股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011614266.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
