[发明专利]一种用于扫描影响因素的评价方法有效

专利信息
申请号: 202011612662.6 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN112762856B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 宋一罡;解岩;王海英;薛战军;龚新宇;张晓勇 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司西安飞机设计研究所
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 王世磊
地址: 710089 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供一种用于扫描影响因素的评价方法,以不同条件下的被测件为研究对象,开展曲面扫描影响因素的技术研究。通过精密的测量系统来获取被测件表面离散的几何坐标数据,获取样件的表面三维信息,对扫描的数据进行预处理,实现复杂曲面的构建。同时,分析点云测量误差的来源和点云测量误差对曲面轮廓评定的影响,为研制高精度大型空间曲面标准装置,搭建扫描测量系统误差分析和校准方法验证系统,实现技术验证。
搜索关键词: 一种 用于 扫描 影响 因素 评价 方法
【主权项】:
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