[发明专利]一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法有效

专利信息
申请号: 202011608099.5 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112720231B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 苏晨义;黄诗福;刘文渐;黄太松 申请(专利权)人: 福建省佳美集团公司
主分类号: B24B29/04 分类号: B24B29/04;B24B27/00;B24B47/12;B24B41/00;B24B41/06
代理公司: 北京立成智业专利代理事务所(普通合伙) 11310 代理人: 奚益民
地址: 362500 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法,包括陶瓷放置架,其用于放置待抛光的陶瓷;抛光机构,其包括容纳有液体的水槽、盖板,盖板密封盖设于水槽的槽口,盖板上开设有至少一个开口,开口上密封连接有防水弹性袋以将开口与水槽内的液体隔离开,防水弹性袋背对液体的一面设有抛光层;抓取机构,其包括真空吸盘,真空吸盘能够伸入陶瓷的内部,并吸附于该陶瓷的内壁上;旋转机构,其用于驱动抓取机构旋转;传送机构,其用于驱动抓取机构移动,以使该抓取机构能够将放置于陶瓷放置架上的陶瓷传送至穿过开口,并使该陶瓷扩张对应的防水弹性袋,进而使该陶瓷被防水弹性袋上的抛光层包覆。之后陶瓷能够相对防水弹性袋旋转,进而完成陶瓷外表面的抛光作业。
搜索关键词: 一种 陶瓷 工用 抛光 设备 方法
【主权项】:
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