[发明专利]一种适用于双光束激光直写的三维模型解析规划方法、装置及设备有效
| 申请号： | 202011600782.4 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112705856B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 卢建刚;杜雨珂;匡翠方;刘旭;何洪扬;夏晨;周国尊;陈金水;杨江;刘兴高;耿卫东 | 申请（专利权）人： | 浙江大学;之江实验室 |
| 主分类号： | G06F17/00 | 分类号： | G06F17/00;B23K26/362;B23K26/40;B23K26/70;B23K101/36 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 吉靖;刘晓春 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种适用于双光束激光直写的三维模型解析规划方法、装置及设备，所述三维模型解析规划方法是针对以三角形面构成的STL格式的三维模型，将STL格式三维模型进行读取解析，同时进行拓扑重构；将导入的STL模型进行高度划分；而后进行等厚切片，对于模型进行分层切割即可生成一系列的顶点；后续通过存储STL格式三维模型的拓扑信息进行轮廓拼接将这些顶点生成一系列轮廓；进行轮廓的填充区域和非填充区域的标记；最后依据不同的扫描线算法进行路径规划，最终实现了在所述双光束激光直写平台上较好的三维光刻效果，并能实现参数调整产生不同特征的三维光刻结果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 光束 激光 三维 模型 解析 规划 方法 装置 设备 | ||
【主权项】：
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