[发明专利]一种高纯硫酸的连续生产方法有效
| 申请号： | 202011586083.9 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112279220B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 王涛;王箫;赵继舟;张雪梅;徐念;徐刚;徐浩;刘松 | 申请（专利权）人： | 苏州香榭轩表面工程技术咨询有限公司;江苏捷创新材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B17/90 | 分类号： | C01B17/90 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 汪青;向亚兰 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市吴*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高纯硫酸的连续生产方法，包括依次进行的发烟硫酸的解析工序、三氧化硫的精制工序、三氧化硫的吸收工序以及真空等离子体脱二氧化硫工序，通过解析获得二氧化硫含量低于0.4%的三氧化硫，通过精制使其中单项金属阳离子含量低于5ppt、二氧化硫低于20ppm；在脱二氧化硫工序中，采用装有填料并配备等离子激发装置的脱气塔，将硫酸自上而下通过脱气塔，使硫酸在填料表面形成降膜，同时自下而上通入氧气和使脱气塔内形成氧‑二氧化硫等离子体，最终获得高纯硫酸。本发明生产效率高，能耗低，污染物排放少、工艺稳定性和安全性好，产品质量稳定，产品品质好，可用于高集成度芯片的清洗和刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 硫酸 连续生产 方法 | ||
【主权项】：
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