[发明专利]一种版图DRC违例的对比和定位方法在审
| 申请号： | 202011563235.3 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN112685980A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 薛芳琦;杨婷;张倩倩 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/31 | 分类号： | G06F30/31;G06F40/169 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种版图DRC违例的对比和定位方法，生成包含原版违例坐标的原版违例坐标文件和包含新版违例坐标的新版违例坐标文件；判断违例类型是否一致；若一致且全为多边形，则将原版违例坐标文件和新版违例坐标文件分别转换为原版layout文件和新版layout文件，并对比并将对比后不同的多边形高亮定位；若违例坐标类型一致且均为边，对比后将不同的边高亮定位；若违例坐标类型不一致，则先将违例坐标转换为一致的类型。本发明的版图DRC违例的对比和定位方法，能够高效实现版图违例的对比和定位，避免了违例数量过多时，人工对比的耗时耗力和易错的弊端，从而提高DRC开发的效率和准确性，缩短项目周期，降低研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 版图 drc 违例 对比 定位 方法 | ||
【主权项】：
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