[发明专利]一种基于烷烃与硅烷反应的SiC-CVD制程尾气为反应循环气FTrPSA可调节方法在审
申请号: | 202011537652.0 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112657314A | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 汪兰海;钟娅玲;钟雨明;陈运;唐金财;蔡跃明 | 申请(专利权)人: | 浙江天采云集科技股份有限公司 |
主分类号: | B01D53/047 | 分类号: | B01D53/047;C01B33/04;C01B3/50;C01B3/56 |
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地址: | 314400 浙江省嘉兴市海宁市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于烷烃与硅烷反应的SiC‑CVD制程尾气为反应循环气FTrPSA可调节方法,通过预处理、中温变压吸附、浅冷变压吸附浓缩、吸附净化、中浅温冷凝及中浅冷精馏诸多工序,实现以基于烷烃(甲烷或丙烷)与硅烷反应的SiC‑CVD晶体或薄膜外延生长制程尾气作为SiC‑CVD反应的循环气使用,并且可通过对循环反应气中各组分浓度及流量的调节,使得SiC晶体或薄膜的沉积效率与质量大幅度提高,既实现尾气的综合利用,又减少了尾气排放,弥补了SiC‑CVD制程尾气处理技术的空白。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 烷烃 硅烷 反应 sic cvd 尾气 循环 ftrpsa 调节 方法 | ||
【主权项】:
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