[发明专利]光刻机扫描系统及光刻机扫描系统远心异常校准方法在审
| 申请号： | 202011533017.5 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN114647154A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 孙文凤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻机扫描系统及刻机扫描系统远心异常校准方法，所述光刻机扫描系统通过在第一光源组件和可变狭缝组件之间设置用于发出第二出射光的第二光源组件，并在第二光源组件发出第二出射光，且测量单元被第二出射光照射到时，测量第二出射光照射到第一测量组件上形成的光斑的中心位置，以计算得到照明组件的远心。如此一来，通过在光刻机扫描系统中引入用于测量远心的第二光源组件，以避免使用用于光刻的第一出射光进行照明组件远心测量而导致的干扰问题。同时，可直接在光刻机扫描系统中完成远心的测量，以提升远心的测量和校准效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 扫描 系统 异常 校准 方法 | ||
【主权项】：
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