[发明专利]掩膜板和修正套刻精度的方法

摘要

本发明提供了一种掩膜板和修正套刻精度的方法。该掩膜板包括相互分离的第一图形区域和/或第二图形区域，第一图形区域和第二图形区域均包括曝光图形，曝光图形包括：多个曝光单元组，各曝光单元组包括多个曝光单元，各曝光单元组的曝光单元以相同的对称中心呈中心对称设置；平移至相同对称中心的第一图形区域的曝光图形和第二图形区域的曝光图形无重叠。采用上述掩膜板可以在参考层上形成多个第一对准标记图形，并在当前层上形成多个第二对准标记图形，并灵活地获取任意一组或多组未变形的第一对准标记单元和第二对准标记单元的光信号，从而避免了由于掩膜板损伤而导致的对套刻精度测量的影响。