[发明专利]对激光束入射角度相对误差不敏感的色谱合成装置及方法有效

专利信息
申请号: 202011509296.1 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN113161849B 公开(公告)日: 2023-02-10
发明(设计)人: 郑权;隋展;高妍琦;崔勇;季来林;李小莉;刘佳妮;谢庆南;饶大幸;华怡林;刘佳;史建;赵晓晖;单翀 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
主分类号: H01S3/00 分类号: H01S3/00;H01S3/067;H01S3/23;G02B27/10;G02B5/04;G02B1/11;G02B1/10
代理公司: 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 代理人: 杜冰云;周涛
地址: 201899 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种对激光束入射角度相对误差不敏感的色谱合成装置及方法,该色谱合成装置通过在普通的二向色镜上添加特殊的分区镀膜构成复合色谱合成镜,通过将该复合色谱合成镜与角锥棱镜配合使用,使两支激光束的光路中均只存在一次反射,从而避免因色谱合成装置与两束待合束的激光束之间的相对角度误差而引起的合束激光光轴的指向偏差,从而提高了色谱合成激光束的亮度和光束质量。
搜索关键词: 激光束 入射 角度 相对误差 敏感 色谱 合成 装置 方法
【主权项】:
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