[发明专利]用于处理电路版图的方法、设备和存储介质有效
| 申请号： | 202011492348.9 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112560392B | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 全芯智造技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本公开的示例实施例，提供了用于处理电路版图的方法、装置、设备和计算机可读存储介质。用于处理电路版图的方法包括生成用于对电路版图执行光学邻近校正的多个子作业。每个子作业对应于电路版图的一个版图单元，并且指定要对版图单元执行的用于光学邻近校正的一个或多个操作。该方法还包括基于多个处理设备的配置信息和一个或多个操作的复杂度，将多个子作业分配给多个处理设备。多个处理设备中的至少一个处理设备被配置有加速处理资源。该方法进一步包括基于多个处理设备对多个子作业处理的结果，确定经过光学邻近校正的电路版图。以此方式，能够有利地实现快速且高效的OPC方案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 电路 版图 方法 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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