[发明专利]用于光源掩模优化的方法、设备和存储介质有效
| 申请号： | 202011491033.2 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112579286B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 全芯智造技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F9/50 | 分类号： | G06F9/50;G06F30/398 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本公开的示例实施例，提供了用于光源掩模优化的方法、设备和计算机可读存储介质。用于光源掩模优化的方法包括生成用于优化光源和掩模版图的多个子作业。每个子作业指定对至少一个光源地图和掩模版图执行的一个或多个操作，并且至少一个光源地图与所述光源相关联。该方法还包括基于多个处理设备的配置信息和一个或多个操作的类型，将多个子作业分配给多个处理设备。多个处理设备中的至少一个处理设备被配置有加速处理资源。该方法进一步包括基于多个处理设备对多个子作业处理的结果，至少确定光源的优化的光源地图。以此方式，能够有利地实现快速且高效的光源掩模优化方案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光源 优化 方法 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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