[发明专利]细外径磁控旋转阴极及用于提高沉积速率的方法在审
| 申请号： | 202011487268.4 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112553586A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 宋光耀;田修波;李建伟 | 申请（专利权）人： | 松山湖材料实验室 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 陈培琼 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种细外径磁控旋转阴极及用于提高沉积速率的方法，所述细外径磁控旋转阴极包括靶管和设置在靶管内的靶芯，该靶芯包括磁芯座和磁铁，所述磁芯座上的水道孔偏心设置，该水道孔的回水口位于所述磁芯座的下端位置，若干磁铁分布在所述磁芯座的外壁上。本发明的结构设计巧妙，水道孔偏心位置以及磁铁位置布置合理，能有效且大幅度提高了靶面磁场强度，能够给沉积速率带来较高的提升；冷却水在磁芯座外部形成冷却，并带走热量，以热水形式经回水口流入水道孔上升流出，形成低进高出的冷却水路，冷却效果好，可以承受更高的使用功率，进一步提升沉积速率。另外整体结构紧凑，体积小，占用空间少，适用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 外径 旋转 阴极 用于 提高 沉积 速率 方法 | ||
【主权项】：
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