[发明专利]一种稳定产生气相痕量元素或其化合物的装置及其应用在审
申请号: | 202011484920.7 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112683617A | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 赵永椿;纪禺山;张军营 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N21/64;F27B17/02 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 孔娜;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于能源与环境相关技术领域,其公开了一种稳定产生气相痕量元素或其化合物的装置及其应用,所述装置包括:注射器,用于输出痕量元素或其化合物的溶液;微型双流雾化喷嘴,包括进液口、进气口以及出口,所述注射器出口与所述进液口连接,所述进气口与载气瓶的出口连接;加热炉以及设于所述加热炉内的加热管,所述加热管的进口与所述出口连接。本申请通过设置微型双流雾化喷嘴首先将较大的液滴分散为均匀细小的液滴,并在后续的加热炉中快速稳定蒸发变成气相,进而可以实现气相痕量元素或其化合物的持续定量输出。 | ||
搜索关键词: | 一种 稳定 生气 痕量 元素 化合物 装置 及其 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011484920.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。