[发明专利]基于均匀线源辐射场产生任意空间指向光针焦场的方法

摘要

本发明涉及一种基于均匀线源辐射场产生任意空间指向光针焦场的方法，其特征在于，由两个共焦的高数值孔径物镜建立4Pi光学聚焦系统，在两个物镜的公共焦点处放置空间指向可任意调整的虚拟均匀线源天线，所述虚拟均匀线源天线产生的辐射场被两个物镜完全汇聚并准直到光瞳面，通过时间反演技术，逆转虚拟均匀线源天线辐射场求得光瞳面特定分布的入射场；实现所述入射场，从光瞳面入射，经4Pi光学聚焦系统反向传输汇聚，在4Pi光学聚焦系统的焦区形成任意空间指向且长度可控的光针焦场。该方法有利于灵活定制所需特性的光针焦场。