[发明专利]曝光系统的控制方法和曝光系统有效
| 申请号： | 202011428844.8 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112596346B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 卞洪飞;董帅;高利军 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 朱鸿雁 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种曝光系统的控制方法和曝光系统，该方法包括：获取曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值，其中，曝光剂量输入值小于曝光剂量阈值；根据曝光剂量输入值控制激光器的输出功率；根据曝光剂量输入值确定运动平台的扫描步长；根据扫描步长控制空间光调制器或激光器，以及，根据扫描步长获得空间光调制器的显示时长或激光器打开时长；在每个扫描步长内，检测到曝光时长达到显示时长或打开时长，控制空间光调制器或激光器关闭。本发明实施例的曝光系统的控制方法可以最大化利用激光器功率，提高曝光系统的产能，并解决扫描步长增大造成的曝光拖影问题，提高曝光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
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