[发明专利]近红外线吸收基板及包括其的光学装置有效

专利信息
申请号: 202011373793.3 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN113093317B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 梁善镐;池春祐;姜南宇;郑埈皓;姜甫澈;金羲卿;尹成龙;罗淏省 申请(专利权)人: 株式会社LMS
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02B5/20;G02B5/22
代理公司: 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 代理人: 朴英淑
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请涉及近红外线吸收基板及包括其的光学装置。本申请的近红外线吸收基板包括:玻璃基板;以及以相互分离的方式形成的第一吸光层和第二吸光层,所述第一吸光层在850nm至1200nm的范围内的一个波长处具有吸收极大值,所述第二吸光层在650nm至750nm的范围内的一个波长处具有吸收极大值,所述第一吸光层包括平均粒径为1μm以下的粒子。本申请的近红外线吸收基板可防止由构成吸光层的多种有机物之间的相互作用导致的可见光透过率及近红外线吸收率的降低。本申请的近红外线吸收基板还具有可实现薄型化的优点。本申请的近红外线吸收基板还具有强度或耐热性等机械物性出色的优点。
搜索关键词: 红外线 吸收 包括 光学 装置
【主权项】:
暂无信息
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