[发明专利]一种248nm厚膜光刻胶树脂及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202011364891.0 | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112485966B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 王溯;方书农;耿志月;崔中越;唐晨;薛新斌;王世建;王志勇;张君;邵泽琨 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种248nm厚膜光刻胶树脂及其制备方法和应用。本发明的光刻胶组合物的制备方法包括以下步骤：将光刻胶组合物中的各个组分混合均匀，即可；所述的光刻胶组合物包括以下组分：光致产酸剂、树脂和溶剂。本发明的光刻胶组合物形成的胶膜具有好的性能，具有好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 248 nm 光刻 树脂 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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