[发明专利]光谱响应电致变色薄膜光谱特性与绝缘性能的调控方法有效

专利信息
申请号: 202011344713.1 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN112526300B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 聂永杰;赵现平;刘荣海;朱远维;赵腾飞;李寒煜;邱方程;肖华根 申请(专利权)人: 云南电网有限责任公司电力科学研究院
主分类号: G01R31/12 分类号: G01R31/12;G01N21/59;G02F1/153;G02F1/155;G02F1/163;G02F1/1516
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 650217 云南省昆*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种光谱响应电致变色薄膜光谱特性与绝缘性能的调控方法,包括以下步骤:在硅基底上制备电致变色/绝缘复合材料薄膜,其中,通过调控绝缘材料在复合材料薄膜中的配比,控制电阻率的变化;在所述复合材料薄膜表面蒸镀金作为金电极,形成金电极‑聚合物薄膜‑硅电极的三明治结构器件;利用紫外可见光谱测试所述结构器件的光谱信息,确定所述结构器件的光学透过率;利用Agilent Keysight B2900A Quick IV测试仪测试所述结构器件在不同额定电压作用下的工作电流,获取所述结构器件在不同外施电压下的电阻率的值,确定所述结构器件的绝缘性能;获取绝缘性能与光学透过率最佳的金电极‑聚合物薄膜‑硅电极的三明治结构器件。
搜索关键词: 光谱 响应 变色 薄膜 特性 绝缘 性能 调控 方法
【主权项】:
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