[发明专利]全画幅光学成像系统及其光学设备在审
申请号: | 202011340217.9 | 申请日: | 2020-11-25 |
公开(公告)号: | CN112346229A | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 刘瑞军;陈宝锋 | 申请(专利权)人: | 深圳市雷影光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B15/14 | 分类号: | G02B15/14 |
代理公司: | 深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504 | 代理人: | 安媛媛 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区桃源街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明供了一种全画幅光学成像系统及其光学设备,从物体侧到像侧依次包括:具有正光焦度的第一透镜组、孔径光阑、具有正光焦度的第二透镜组、具有负光焦度的第三透镜组和具有正光焦度的第四透镜组;合焦过程中第三透镜组沿光轴向着像侧方向移动,第一透镜组、第二透镜组、第四透镜组相对于像面位置保持不变;所述第一透镜组满足以下条件式:1.3≤F1/F≤2.5,(1);所述第二透镜组满足以下条件式:‑4.5≤F3/F≤‑3.0,(2)。本发明还提供一种设有上述全画幅光学成像系统的光学设备。该成像系统的合焦组件仅由一枚透镜组成,减轻了合焦组的重量及光学成像系统总体重量,同时其有利于光学成像系统和成像设备的快速合焦。 | ||
搜索关键词: | 画幅 光学 成像 系统 及其 设备 | ||
【主权项】:
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