[发明专利]横向双扩散晶体管的电路模型及其建模方法在审
申请号: | 202011318318.6 | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN112364593A | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 蒋盛烽 | 申请(专利权)人: | 杰华特微电子(杭州)有限公司 |
主分类号: | G06F30/367 | 分类号: | G06F30/367;G06F117/12 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯;张靖琳 |
地址: | 310030 浙江省杭州市西湖区三墩镇*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种横向双扩散晶体管的电路模型及其建模方法,该电路模型包括:标准BSIM4模型;串联于标准BSIM4模型上的栅端‑体端等效电容,包括多个栅端‑体端等效电容修正项系数,用于修正栅端‑体端电容;串联于标准BSIM4模型上的栅端‑漏端等效电容,包括多个栅端‑漏端等效电容修正项系数,用于修正栅端‑漏端电容,其中,该电路模型用于表征横向双扩散晶体管的电容特性。该LDMOS的电路模型及其建模方法在BSIM4模型的基础上,加上了定制的栅端‑体端等效电容和栅端‑漏端等效电容,使得该电路模型在利用BSIM4模型的收敛性、兼容性和较快的仿真速度的同时,也能准确的表征LDMOS的电容特性,克服了BSIM模型无法准确表征LDMOS的电容特性的问题。 | ||
搜索关键词: | 横向 扩散 晶体管 电路 模型 及其 建模 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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