[发明专利]邻苯二酚衍生的多孔聚合物的制备及其负载高自旋单原子铁的光催化应用有效
| 申请号： | 202011309995.1 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112321804B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘宇宙;谷得发 | 申请（专利权）人： | 北京深云智合科技有限公司 |
| 主分类号： | C08G61/02 | 分类号： | C08G61/02;B01J31/06;C07D303/04;C07D301/06 |
| 代理公司： | 北京天汇航智知识产权代理事务所(普通合伙) 11987 | 代理人： | 黄川;史继颖 |
| 地址： | 100089 北京市海淀区永澄*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明制备了一系列全新结构多孔聚合物，并以之制备得到一系列全新结构的邻苯二酚衍生的多孔聚合物，继而在其基础上最终制备得到邻苯二酚衍生的多孔聚合物负载的高自旋单原子铁催化剂。邻苯二酚衍生的多孔聚合物负载的高自旋单原子铁催化剂的制备方法，以邻苯二酚衍生的多孔聚合物作为催化剂骨架，与铁源反应，得到高自旋单原子铁催化剂。本发明还公开了高自旋单原子铁催化剂在光照下催化苯乙烯环氧化制备氧化苯乙烯方面的应用。该催化剂在催化苯乙烯环氧化反应中，反应转化率可达100％，选择性为94％，具有反应活性高、选择性好等优点。该催化剂不仅具有高催化活性，高选择性和高稳定性，且制备方法简单，可以重复使用。 | ||
| 搜索关键词： | 邻苯二酚 衍生 多孔 聚合物 制备 及其 负载 自旋 原子 光催化 应用 | ||
【主权项】：
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