[发明专利]一种高分辨率的冷中子成像材料及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202011291442.8 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114578409A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 孙承华;陈龙;周树云;符玉华;胡秀杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G01T3/00 | 分类号： | G01T3/00;G01N23/05 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 邹欢 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种高分辨率的冷中子成像材料，所述冷中子成像材料中包含氧化钆与乳剂。该材料的设计突破了耦合屏的限制，提高了材料的分辨率；该材料在冷中子成像领域的分辨率可达10μm。本发明还公开了该冷中子成像材料的制备方法和应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分辨率 中子 成像 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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