[发明专利]新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011270985.1 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112467517A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 尧舜;张颜儒;杨默;戴伟;常露;王青;李军;张杨 申请(专利权)人: 华芯半导体科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/187;H01S5/06;H01S5/32
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 周慧云
地址: 225500 江苏省泰州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了新型调制高功率VCSEL芯片及其制备方法,包括依次生长的缓冲层、N型布拉格反射镜、第一量子阱、P型布拉格反射镜、设置在缓冲层远离N型布拉格反射镜的至少部分表面上的第一反向电极、设置在P型布拉格反射镜远离N型布拉格反射镜的表面的边缘的正向电极、设置在正向电极以及正向电极未覆盖的P型布拉格反射镜的表面上的第二量子阱以及设置在第二量子阱远离P型布拉格反射镜的表面的边缘的第二反向电极。通过在最外层生长第二量子阱结构,使得对激光器件的调制不再是对激光器添加电激励,而是通过改变第二量子阱结构的特性来控制激光的出射,大大减小了激光器在接通电源时的驰豫振荡的影响,从而提高了芯片的性能。
搜索关键词: 新型 调制 功率 vcsel 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
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