[发明专利]用于显微镜的光学成像设备在审

专利信息
申请号: 202011269214.0 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112817138A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 凯·瑞特舍尔;马可·宾格尔;帕特里克·佩尔泽 申请(专利权)人: 莱卡微系统CMS有限责任公司
主分类号: G02B21/36 分类号: G02B21/36;G02B21/18;G02B21/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋融冰
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于显微镜的光学成像设备包括:第一和第二光学系统,分别被配置为根据第一、第二成像模式形成与样本的第一、第二区域相对应的第一、第二光学图像,其中第一和第二区域在空间上重合于目标区域,并且第一和第二成像模式彼此不同;存储器,存储第一和第二畸变校正数据以及适于校正第一与第二光学图像之间的位置不对准的变换数据,畸变校正数据适于校正光学图像中由光学系统引起的光学畸变;和处理器,被配置为基于第一畸变校正数据处理第一图像数据以生成第一畸变校正图像数据,基于第二畸变校正数据处理第二图像数据以生成第二畸变校正图像数据;以及基于变换数据组合第一和第二畸变校正图像数据以生成组合图像数据。
搜索关键词: 用于 显微镜 光学 成像 设备
【主权项】:
暂无信息
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