[发明专利]一种石墨基底的表面处理方法及TaC涂层的制备方法有效
| 申请号： | 202011264485.7 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112374911B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 戴煜;吴建;易君 | 申请（专利权）人： | 湖南中科顶立技术创新研究院有限公司;南昌大学 |
| 主分类号： | C04B41/87 | 分类号： | C04B41/87;C04B41/91 |
| 代理公司： | 长沙智路知识产权代理事务所(普通合伙) 43244 | 代理人： | 曲超 |
| 地址： | 410118 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开一种石墨基底的表面处理方法及TaC涂层的制备方法，该表面处理方法为：将所述石墨基底清洗干净并干燥，放入等离子体改性设备的反应室内，关闭进气阀门，将所述反应室抽真空，然后通入氧气或者氩气将所述反应室充满，调节进气阀门使所述反应室真空度稳定在10‑100Pa，开始射频电源放电，进行氧等离子体或者氩等离子体轰击石墨基底表面，增加石墨基底表面的粗糙度和提高所述石墨基底表面的活性；通过该方法处理后再进行TaC涂层沉积，可使所形成的TaC涂层与石墨基底结合紧密，不易脱落，热抗震性能大大提高；而且工艺简单高效、能耗低、生产成本低且生产周期短。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 基底 表面 处理 方法 tac 涂层 制备 | ||
【主权项】：
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