[发明专利]一种可电解再生循环使用的铜面粗化剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011232439.9 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN112323068A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 费世兵;张贵贤;黄智华 申请(专利权)人: 深圳市煜杰兴电子材料有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;C23F11/14;C23F11/10
代理公司: 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 代理人: 张静
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及金属蚀刻技术领域,更具体地,本发明涉及一种可电解再生循环使用的铜面粗化剂及其制备方法。本发明提供一种粗化剂,可用于PCB、FPC板制程过程中铜面的粗化处理,可通过电解的方法的循环再生,减少现有作业方式废水排放,且在粗化过程中,通过使用铁盐在无机酸水溶液的环境中,促进三价铁和铜表面接触发生氧化还原反应,使得铜表面部分铜原子生成二价铜离子,并分散在粗化剂中来发生蚀刻,且申请人发现,通过添加表面活性剂等,可促进三价铁向铜表面扩散速率,以及二价铜离子分散到溶液中,提高常温、短时间内的蚀刻量,且通过选择合适的促进剂和抑制剂等,有利于调控蚀刻的粗糙度和均匀程度,有利于提高铜面附着力和附着稳定性。
搜索关键词: 一种 电解 再生 循环 使用 铜面粗化剂 及其 制备 方法
【主权项】:
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