[发明专利]一种基于TE偏振光斜入射模式的双通道窄带吸收体有效

专利信息
申请号: 202011222874.3 申请日: 2020-11-05
公开(公告)号: CN112684524B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 陆晓元 申请(专利权)人: 新乡医学院
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 453003 *** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的是提供一种基于TE偏振光斜入射模式的双通道窄带吸收体,提供更高的灵敏度和综合反应灵敏度的品质因子,包括红外石墨烯基窄带吸收单元,红外石墨烯基窄带吸收单元包括从上到下位的电介质层、缓冲电介质层、石墨烯薄膜、高折射率纳米腔超表面、金属基底,所述高折射率纳米腔超表面的上端面向下开设有孔,孔中填充与电介质层相同的电介质,由于该结构的反射谱宽度0.5 nm,谐振位置吸收率高达97%,所以该结构有助于设计高灵敏度折射率传感器,其中,顶部电介质层作为第一个通道,高折射率纳米腔超表面的纳米深孔阵列作为第二个通道,结果表明该传感器的灵敏度可达500 nm/RIU,综合反应灵敏度的品质因子高达1000/RIU,优于现有技术。
搜索关键词: 一种 基于 te 偏振光 入射 模式 双通道 窄带 吸收体
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新乡医学院,未经新乡医学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011222874.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top