[发明专利]用于压印纳米孔薄膜的装置和方法在审
| 申请号： | 202011191762.6 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112248314A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 周向前;伊沃·朗格诺 | 申请（专利权）人： | 上海赢冠科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C35/02 | 分类号： | B29C35/02;B29C35/10;B26F1/00;B29L7/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张丰豪 |
| 地址： | 201210 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种用于压印纳米孔薄膜的装置和方法。所述装置包括第一压印部件和第二压印部件，第一压印部件和第二压印部件中的至少一者上设置有以预定阵列布置的、呈突起状的多个第一压印元件，当第一压印部件和第二压印部件彼此挤压接触时，多个第一压印元件能够在设置于第一压印部件和第二压印部件之间的薄膜上压印出以预定阵列布置的、孔径大小受控的纳米孔，其中，多个第一压印元件具有相同的尺寸和构造。该装置能够压印出具有以预定阵列布置的、贯穿所述膜体的、孔径基本相同的多个纳米孔的薄膜，该薄膜具有期望的通透度和低流体阻力，从而具有广泛的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 压印 纳米 薄膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
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