[发明专利]高能射线照射SF6在审

专利信息
申请号: 202011187444.2 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112326774A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 曾德华;周维超;陈甄锐;万志炜 申请(专利权)人: 四川赛康智能科技股份有限公司
主分类号: G01N27/66 分类号: G01N27/66
代理公司: 成都中络智合知识产权代理有限公司 51300 代理人: 嬴雨径;李永生
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于电气设备检测技术领域,公开了高能射线照射SF6气体的电离测试方法,通过在一填充有SF6气体的封闭空间中设置两个具有间隔的电极材料,对两个电极材料通电产生极性,在对封闭空间进行高能射线照射时通过获取检测电极材料之间产生电流值进行分析获取电离数据。本发明精确测量在高能X射线照射下SF6气体所产省自由电子数量,无需施加高电压,安全性高;而自由电子由于电场力作用下累积到金属电极板,从而产生电流,电流表能精准捕捉到这个过程中产生的电流,大大的提高了测量的精准度。
搜索关键词: 高能 射线 照射 sf base sub
【主权项】:
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