[发明专利]光学邻近修正方法在审

专利信息
申请号: 202011187204.2 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112230508A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 顾婷婷;张浩;陈翰;宋康 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种光学邻近修正方法,包括:将OPC图形导入OPC软件中,所述OPC图形中具有多个特定图形;选取所述OPC图形中的任一特定图形,对所述特定图形进行光学模拟,以得到模拟图形,将所述模拟图形与所述特定图形重叠,将所述特定图形的相邻的两边分别切割成n段,n≥3;选取n段中的一段或两段作为操作段,分别计算出每个所述操作段与所述模拟图形的最小距离;根据所述最小距离将对应的操作段移动一单位移动量,每移动一次进行一次光学模拟,以更新所述模拟图形,每次更新所述模拟图形之后,重新计算每个所述操作段与所述模拟图形的最小距离。本发明解决了现有技术中OPC图形的光学邻近修正受栅格切分影响导致OPC图形存在修正误差的问题。
搜索关键词: 光学 邻近 修正 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011187204.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top