[发明专利]一种柔性荧光增强基底及其制备方法和应用在审
申请号: | 202011176108.8 | 申请日: | 2020-10-28 |
公开(公告)号: | CN112362622A | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 张勇;江文宇;陈哲学;李玥碕 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;C23F1/14 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种柔性荧光增强基底及其制备方法和应用,所述制备方法包括以下步骤:(1)将贵金属胶体粒子集成在多孔金属氧化物模板表面,得到贵金属胶体粒子的阵列;(2)将步骤(1)得到的贵金属胶体粒子阵列与柔性高分子复合,得到贵金属胶体粒子阵列/柔性高分子的复合薄膜;(3)将步骤(2)得到的复合薄膜通过化学刻蚀,去除掉多孔金属氧化物剩余的金属得到所述柔性荧光增强基底。本发明通过对贵金属胶体粒子的大规模快速集成与柔性转移,获得了高效的柔性荧光增强基底。具有成本低,操作简便,对荧光信号的增强效果优良,为荧光光谱分析技术在实际中的广泛应用打下了基础。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 荧光 增强 基底 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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