[发明专利]一种可重复使用的低温渗铝剂及渗铝方法在审

专利信息
申请号: 202011164272.7 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN114481013A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 李生志;郁程晶;丁丽锋;夏楠;张长春;沈红卫;张炼 申请(专利权)人: 上海电气电站设备有限公司;武汉铭高新材料有限公司
主分类号: C23C10/48 分类号: C23C10/48
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 金彦;许亦琳
地址: 201108 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种可重复使用的低温渗铝剂及渗铝方法。该渗铝剂包括如下质量百分比的各组分:供铝剂6~25%;促渗剂1~15%;光亮剂1~6%;分散剂54~92%。该渗铝方法包括如下步骤:a)将待处理的金属零件与该渗铝剂接触以进行渗铝处理,提供经受渗铝处理后的金属零件和已使用过的渗铝剂。本发明渗铝剂组分简单,材料易得,可重复使用,可降低渗铝成本,而且渗铝温度低,制备过程简单,提高渗铝效率,不仅改善金属零件的抗高温氧化和腐蚀性能,而且提高其服役温度和工作寿命。
搜索关键词: 一种 重复使用 低温 渗铝剂 方法
【主权项】:
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