[发明专利]一种激光制造自动聚焦系统有效

专利信息
申请号: 202011142332.5 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN112162396B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 张震;刘义杰;余良;曹宇轩 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B21/24 分类号: G02B21/24;G02B21/26;G02B21/36
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 张建纲
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种激光制造自动聚焦系统,包括安装平台、光学模块、图像采集模块、精密位置调整模块、图像处理模块、通讯模块和运动控制模块。图像采集系统对激光在加工表面的光斑图像进行采集,经由图像处理模块进行处理,通过运动控制模块完成激光自动聚焦。精密位置调整模块可对图像采集模块进行位置微调,便于在视野中捕获光斑;通过光学模块的合理设计,可以在加工进行的同时,实现激光光斑的自动聚焦与实时监测。本发明可实现桌面级高精度激光微纳制造装置在加工面处的自动聚焦,具有低成本、运动精度高、调整范围大、灵活度高、模块化结构、适用范围广等特点,具有较高的应用价值,可广泛应用于激光制造中的聚焦过程。
搜索关键词: 一种 激光 制造 自动 聚焦 系统
【主权项】:
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