[发明专利]后处理装置及印刷系统有效

专利信息
申请号: 202011139272.1 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN112707224B 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 坂上将太;天野祐作;圆谷悠;百瀬功 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B65H31/00 分类号: B65H31/00;B41J2/01
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 沈丹阳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及后处理装置及印刷系统。提供能够将刚性根据被喷出液体而变化的介质适当地载置于排出托盘的后处理装置。后处理装置的特征在于,具备:载置朝向输送方向被输送的介质(M)的中间托盘(35);排出在中间托盘上进行过后处理的介质的排出口(98);相对于排出口配置于重力方向上,并载置从排出口排出的介质的排出托盘(37);以及使排出托盘升降的升降机构(94),升降机构能够使排出托盘移动至第一通常位置(P1)和相对于第一通常位置位于重力方向的反方向的第一待机位置(P1A、P1B),并在介质与排出托盘或先载置于排出托盘上的介质接触之前,该升降机构根据油墨的量使排出托盘移动至第一通常位置或第一待机位置。
搜索关键词: 处理 装置 印刷 系统
【主权项】:
暂无信息
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