[发明专利]微透镜阵列的形成方法及点胶装置有效
| 申请号： | 202011135589.8 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN111965740B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 王厚有;冯永波;刘西域;周晓峰 | 申请（专利权）人： | 晶芯成（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;B05C13/02;B05C11/06;B05C5/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微透镜阵列的形成方法及点胶装置，包括提供晶圆，所述晶圆包括若干个芯片，所述芯片上包括像素区；依次在所述芯片的像素区的中心进行滴光刻胶作业；对所述芯片的像素区进行气体吹扫，以调整所述像素区上光刻胶的形貌，以及进行光刻作业，以在所述芯片的像素区形成特定形貌的微透镜阵列。本发明通过采用步进式光刻胶涂布方法实现点胶，且在点胶过程中通过气体吹扫调整光刻胶的形貌，以使后续形成的微透镜阵列具有特定形貌，实现CRA优化，减小像差。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 形成 方法 装置 | ||
【主权项】：
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