[发明专利]一种光学膜专用高聚合高醇解度PVA系熔体的制备方法有效
| 申请号： | 202011120699.7 | 申请日： | 2020-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN112341636B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 杨周玺;尹富强;毛念林;朱灵玲;张环 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石化集团重庆川维化工有限公司 |
| 主分类号： | C08J3/05 | 分类号： | C08J3/05;C08J3/28;C08J5/18;C08L29/04;C08K5/053;C08K5/526;C08K5/098 |
| 代理公司： | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人： | 王攀 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及高分子材料加工技术领域，公开了一种光学膜专用高聚合高醇解度PVA系熔体的制备方法，包括如下步骤：步骤I：称料，准确称取聚乙烯醇100‑200份、二级脱盐水100‑400份、增塑剂12‑112份、表面活性剂0.01‑8份、抗氧剂0.0005‑0.2份；步骤II：第一溶液的制备，将表面活性剂和抗氧剂加入二级脱盐水中配制成第一溶液；步骤III：第二溶液的制备，将增塑剂添加到第一溶液中，混合均匀形成第二溶液；步骤IV：将剩余原料添加到第二溶液中混合均匀，形成第三溶液；步骤V：将第三溶液在微波辐射条件下搅拌均匀，加热形成PVA系熔体。本发明解决了现有技术中在制备PVA熔体时存在的原料混匀不充分而造成的产品拉伸强度低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 专用 聚合 高醇解度 pva 系熔体 制备 方法 | ||
【主权项】：
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