[发明专利]混合成像装置和/或用于设计磁体布置结构的方法在审
| 申请号： | 202011106211.5 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN112684391A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | J·弗兰克;V·尼曼 | 申请（专利权）人： | 布鲁克碧奥斯平MRI有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/38 | 分类号： | G01R33/38;G01N24/08;G01N23/046 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 吕晨芳 |
| 地址： | 德国埃*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种混合成像装置和/或用于设计磁体布置结构的方法，混合成像装置可以在MPI模式和至少另一个成像模式中运行并且具有磁体布置结构，所述磁体布置结构构成用于，在MPI模式中产生具有梯度B1和在样品体积(PV)中的零场的区的磁场，其中，磁体布置结构具有包括海尔贝克偶极配置方式的两个磁环(R1、R2)的磁环对(R1/R2)，所述磁环同轴地设置在延伸通过样品体积(PV)的共同的Z轴上，磁环(R1、R2)围绕Z轴可相对彼此转动地设置。因此可以不仅生成磁场，所述磁场对应于用于MRI而且用于MPI的要求，从而混合成像装置装备可以用于在不同的成像模式中的测量，所述成像模式具有MPI、MRI和CT。 | ||
| 搜索关键词： | 混合 成像 装置 用于 设计 磁体 布置 结构 方法 | ||
【主权项】：
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