[发明专利]一种基于动态磁场的抛光装置、抛光方法、应用在审
| 申请号： | 202011102428.9 | 申请日： | 2020-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN112222956A | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 卢明明;庄绪龙;林洁琼;谷岩;周家康 | 申请（专利权）人： | 长春工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 130000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及超精密加工技术领域，具体公开了一种基于动态磁场的抛光装置、抛光方法、应用，所述基于动态磁场的抛光装置包括磁流变抛光组件与磁场发生组件，磁流变抛光组件包括抛光盘，所述抛光盘的表面沿圆周方向设有若干个V形结构，用于增加抛光过程中流体动压力，所述抛光盘外侧的工作台部分设置有回收槽，本发明实施例通过在抛光盘上设有高低起伏的V形结构，使磁流变液在流过时形成流体动压膜；通过在磁场发生组件时，使磁流变液由液态变成固态的柔性抛光垫，在柔性抛光垫和动压膜的双重作用下，工件被打磨得更均匀、效率更好、效果更好，解决了现有磁流变抛光装置存在无法实现工件的均匀快速抛光去除的问题，具有广阔的市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 动态 磁场 抛光 装置 方法 应用 | ||
【主权项】：
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