[发明专利]一种宽带高透过单层AlF3

摘要

本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种以AlF3为靶材用磁控溅射法制备宽带高透过AlF3减反射膜的制备方法，包括以下步骤：SF6/Ar2气体流量比设置、溅射工作压力设置，射频电源功率设置；本发明以AlF3作为靶材，以Ar2作为工作气体，SF6作为反应气体，使用仪器的气路混合装置将气体充分混合，通过调整溅射时SF6/Ar2气体流量比值，改善了沉积AlF3薄膜中F贫乏缺陷的问题，通过调整工作压力和射频电源功率使得AlF3薄膜F∶Al的化学计量比接近于正常化学计量比值3∶1，降低了薄膜的折射率，且提高了镀膜玻璃的透过率。采用本技术方案制得AlF3减反射膜可应用于光学器件中，制备工艺简单、成本降低。