[发明专利]基片处理装置在审
| 申请号： | 202011078255.1 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112684663A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 稻叶翔吾 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基片处理装置，其在一个方面包括：收纳基片的处理室；能够保持基片并使之旋转的旋转保持部；对旋转保持部所保持的基片的表面供给处理液的处理液供给部；排气部，其从设置于比旋转保持部所保持的基片的外周靠外侧的位置的排气口，将处理室内的气体排出；板，其以在旋转保持部所保持的基片的周向上的一部分于表面相对，且在该基片的周向上的其他部分不与表面相对的方式配置在处理室内；和板配置部，其能够切换第一状态和第二状态，其中，第一状态是板在一部分与表面相对的状态，第二状态是板位于比第一状态离开表面的位置的状态。根据本发明，在进行需要板的液处理和不需要板的液处理中，能够降低板未使用时对液处理结果的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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