[发明专利]一种光学临近效应修正方法及装置

摘要

本发明提供了一种光学临近效应修正方法及装置，该光学临近效应修正方法包括：获取待处理设计图形中的角对角特征；将所述角对角特征处的两条竖边在水平方向上背向移动预设距离，得到目标设计图形；对所述目标设计图形进行分段处理，控制点与分段点在同一条直线上。也就是说，在目标设计图形上再进行分段处理，这样在分段之前就改变了角对角特征处的尺寸，使得设计图形边缘进行上下移动时不再拘束于单一方向，可以向接近角的方向移动的同时满足掩膜制造最小尺寸的要求。