[发明专利]纳米压印工艺监测方法、监测装置及纳米压印设备在审
| 申请号： | 202011020304.6 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN111929986A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 臧法珩;赵东峰;李琨;董立超;杜凯凯;艾立夫;王喆;饶轶 | 申请（专利权）人： | 歌尔股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 梁馨怡 |
| 地址： | 261031 山东省潍*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开一种纳米压印工艺监测方法、监测装置及纳米压印设备，其中，纳米压印工艺监测方法包括以下步骤：光源向待测物上的PCM模块发射监测激光；其中，所述待测物包括纳米压印模板和/或纳米压印产品；成像模块接收所述PCM模块的反射激光，以获取所述反射激光所形成的反射光斑；以及处理器获取所述成像模块所反馈的所述反射光斑，并根据所述反射光斑判断所述待测物是否合格。本发明技术方案采用监测激光对PCM模块进行监测，可对待测物进行间接的非接触实时工艺监测，从而在纳米压印量产中提供实时的工艺监测。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 工艺 监测 方法 装置 设备 | ||
【主权项】：
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