[发明专利]一种同时去除水环境中的抗生素及抗性菌的方法有效

专利信息
申请号: 202010989516.9 申请日: 2020-09-18
公开(公告)号: CN112374585B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 潘学军;赵天国;黄斌;何欢;马启程 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C02F1/467 分类号: C02F1/467;C02F1/72;C02F101/30
代理公司: 昆明隆合知识产权代理事务所(普通合伙) 53220 代理人: 龙燕
地址: 650000 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开一种同时去除水环境中的抗生素及抗性菌的方法,属于光电耦合催化技术领域。本发明所述方法通过光电耦合催化技术对水环境中的抗生素及抗性菌进行去除。步骤如下:首先制备具有强氧化能力的光催化阳极和具有还原能力的催化阴极,用质子交换膜隔开分为阳极室和阴极室;阳极室照射模拟自然光并外接稳压电源,污水从阳极室流向阴极室。本方法操作简单、经济成本较低,不仅具有很强的氧化能力,同时具有强还原能力,可同时去除水环境中的抗生素及抗性菌,并且对DNA中的抗性基因有很强的破坏能力,有效地阻止了抗性基因的传播。
搜索关键词: 一种 同时 去除 水环境 中的 抗生素 抗性 方法
【主权项】:
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