[发明专利]一种基于二次外延技术的非选择氧化垂直腔面发射激光器在审
申请号: | 202010970223.6 | 申请日: | 2020-09-15 |
公开(公告)号: | CN112510484A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 王智勇;徐晟;李冲;王聪聪;黄瑞 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/125 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 张立改 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
一种基于二次外延技术的非选择氧化垂直腔面发射激光器,属于激光器技术领域。该激光器为一种利用具有DBR结构的垂直腔面发射激光器的外延结构从下向上的顺序依次包括衬底、N型掺杂层、N型DBR层、多量子阱层、P型DBR层、光刻胶、Al |
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搜索关键词: | 一种 基于 二次 外延 技术 选择 氧化 垂直 发射 激光器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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