[发明专利]复合铜膜结构用蚀刻液有效
| 申请号： | 202010960641.7 | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN112064027B | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 苏伟;叶宗和 | 申请（专利权）人： | 深圳市志凌伟业光电有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 欧阳燕明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道大富*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了复合铜膜结构用蚀刻液，包括溶剂；第一蚀刻剂，溶于溶剂中，第一蚀刻剂与溶剂的体积比为1:1‑1:6；第一蚀刻剂为硝酸和亚硝酸中的至少一种；第二蚀刻剂，溶于溶剂中，第二蚀刻剂与溶剂的体积比为1:1‑1:6；第二蚀刻剂为硫酸、过氧硫酸和亚硝酸中的至少一种；第三蚀刻剂，溶于溶剂中，第三蚀刻剂与溶剂的体积比为1:2‑1:21；第三蚀刻剂为盐酸、次氯酸和高氯酸中的至少一种；第二蚀刻剂、第三蚀刻剂与第一蚀刻剂三者的体积比介于1:1:1至1:0.25:0.25之间。本蚀刻液能够完全蚀刻掉未被光阻保护的电阻层区域，避免铜膜上金属线路的边缘出现黑边，且不会蚀刻铜膜，有效提高加工精度。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 膜结构 蚀刻 | ||
【主权项】：
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