[发明专利]一种基于聚焦超声控制SMP印章的微转印方法及其装置在审
申请号: | 202010959628.X | 申请日: | 2020-09-14 |
公开(公告)号: | CN114179537A | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 张力;王明阳;田丰;郝博 | 申请(专利权)人: | 东北大学秦皇岛分校 |
主分类号: | B41M3/00 | 分类号: | B41M3/00;B41K1/02;B41K1/36;G05D23/20 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人: | 姜司晨 |
地址: | 066000 河北省秦*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于聚焦超声控制SMP印章的微转印方法及其装置,该方法包括部署调试阶段、剥离阶段、打印阶段,具体步骤为:部署能量发生装置、转印载体及调试控制系统;将超声能量作用于SMP印章并使其与微电子器件接触,在界面粘附力作用下将本置于源基体上的微电子器件剥离;再次将超声能量作用于SMP印章使其发生形变回复,从而微电子器件被打印至目标基体上;该方法增强了转印过程可控性、提高了微转印质量和效率;所述微转印装置包括:能量发生装置、能量控制系统、转印载体系统、目标基体、源基体,该装置结构简单成本低,用超声换能器非接触加热,可适应复杂结构转印,采用水作为超声波的传递介质,能量损耗小、清洁环保。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 聚焦 超声 控制 smp 印章 微转印 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
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