[发明专利]用于修改光分布的光学设备在审
| 申请号： | 202010945323.3 | 申请日： | 2020-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN112483992A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 乔尼·帕姆;基莫·哈留恩佩 | 申请（专利权）人： | 莱迪尔公司 |
| 主分类号： | F21V5/04 | 分类号： | F21V5/04;F21V7/00;F21V13/04;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 李兰;孙志湧 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于修改光分布的光学设备。该光学设备(201)包括具有入光表面(206)和出光表面(207)的透镜(205)。该入光表面包括在入光表面的中心区域(208)上的一个或多个V形突起，并且该入光表面在该中心区域以外的区域(209)上没有角。每个V形突起被成形以使得在光束到达该V形突起的一个侧表面时发生表面穿透，并且在光束到达该V形突起的其它侧表面时发生全内反射。由此，由光源(202)的发光表面(213)的边缘区域发射的倾斜到达的光束更好地与由发光表面的其它区域发射的光束进行混合。因此，光分布图案内所不期望的颜色变化被减少。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 修改 分布 光学 设备 | ||
【主权项】：
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