[发明专利]低光泽透射型辐射制冷薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010936681.8 | 申请日： | 2020-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN112063089B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 徐绍禹;王明辉;吕乐 | 申请（专利权）人： | 宁波瑞凌新能源科技有限公司;宁波瑞凌新能源材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | C08L33/12 | 分类号： | C08L33/12;C08L1/28;C08L5/04;C08K7/26;C08K7/18;C08K3/22;C08K3/24;C08K5/098;C08J5/18 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 贺才杰 |
| 地址： | 315000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低光泽透射型辐射制冷薄膜及其制备方法。所述薄膜主要由以下质量百分比的原料制备而成：聚合物基材89％～98.4％；第一填料0.5％～3％；第二填料0.1％～3％；第三填料1％～5％；所述第一填料的折射率与所述聚合物基材的折射率之差的绝对值为0.05～0.7；所述第二填料的粒径为5μm～15μm，且所述第二填料选自多孔二氧化硅、硬脂酸铝、硬脂酸钙和聚甲基脲树脂中的至少一种；所述第三填料含有Si‑O键。本发明的薄膜，可将其光泽度降低至3GU～13GU，减少光污染。并且，在8μm～13μm大气窗口发射率由原来75％左右提高至85％‑90％，辐射制冷效果优异。 | ||
| 搜索关键词： | 光泽 透射 辐射 制冷 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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