[发明专利]一种研磨装置的清洁结构在审

专利信息
申请号: 202010932925.5 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN112122185A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 史晓忠;刘洋;李雪;刘新军 申请(专利权)人: 杭州兰友科技有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B1/02;B08B9/087;B08B9/093;B02C23/00
代理公司: 杭州天启智汇专利代理事务所(普通合伙) 33357 代理人: 周恩慧
地址: 310052 浙江省杭州市滨江区西兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种研磨装置的清洁结构,包括研磨罐和研磨盖,以及与研磨罐配合清洁的第一清洁机构,与研磨盖配合清洁的第二清洁机构,其中研磨罐与研磨盖彼此配合,通过独立的驱动系统分部控制,其中研磨盖需要翻转,也需要研磨样品,而研磨盖需要前后运动,并且与研磨罐彼此配合。本发明能够解决现有技术中存在的不足之处,整体清洁方便,效率高。
搜索关键词: 一种 研磨 装置 清洁 结构
【主权项】:
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